以高精度、高性能和高可靠性，服务新型显示制造关键工艺
主要应用于G6 及以上的大尺寸玻璃基板曝光工艺，使用多投影物镜光学系统，具备大视场、高精度等特点，可满足量产线和研发线的各种高精度曝光工艺需求。
高精度
大剂量下高产率
工艺适应性强
独特的气浮传输结构
主要应用于G2.5~G6 LCD、AMOLED、Micro LED 等显示屏的曝光制造，满足量产线和研发线的各种高精度曝光工艺需求。
高精度
低使用成本
独创双曝光系统工艺适应性强
主要应用于显示制造中的TFT、CF、TPOT、COE等工艺制程的TP（Total Pitch）、CS（Center Shift）、CD（Critical Dimension）和OL（Overlay）量测，可支持各世代基板。长寸量测设备又称基板变形检测设备或精密测长机，主要用于长寸TP和CS量测，兼容短寸CD和OL量测；短寸量测设备又称关键尺寸量测设备，主要用于短寸CD和OL量测。
高量测精度
高量测效率
多功能量测
主要应用于OLED G6~G8.6世代高精密掩模版FMM张网工序，具备高精度张网及高效率焊接功能，可实现全制程像素位置精度监控及实时补偿，灵活应对不同产品的工艺需求。
张网精度高
多种照明模式工艺适应性强
