主要应用于G6 及以上的大尺寸玻璃基板曝光工艺，使用多投影物镜光学系统，具备大视场、高精度等特点，可满足量产线和研发线的各种高精度曝光工艺需求。
高精度
大剂量下高产率
工艺适应性强
独特的气浮传输结构
采用精密的光学系统、大行程运动台和先进的测校等技术，保证设备实现大扫描曝光场的同时具有高分辨率和高套刻精度等性能。
具有高透过率的投影曝光系统，可在玻璃基板上实现高照度曝光，提升大剂量曝光时的产率。
可选配多种对准光源波长，适应各种曝光工艺工况。
独特的气浮传输结构和载台，能有效减少交叉污染且无Pin Mura，助力提升良率。
