主要应用于G2.5~G6 LCD、AMOLED、Micro LED 等显示屏的曝光制造，满足量产线和研发线的各种高精度曝光工艺需求。
高精度
低使用成本
独创双曝光系统
工艺适应性强
精密的光学系统和先进的测校等技术，保证设备高分辨率，支持新型显示屏的高精度曝光。
较低的运营和维护费用：采用标准6英寸掩模(或其加长版)，2倍放大成像，显著降低掩模费用。
独有专利保护的小Mask双曝光系统，攻克多曝光场对准、多照明系统匹配、多场垂向合焦控制等关键技术。
支持多种基板尺寸，可选配红外等多种对准光源波长，适应各种曝光工艺工况。
