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上海玻纳刻亮相“2026 第六届光刻产业大会”并发表报告

2026年6月24日—25日,第六届光刻产业大会在杭州圆满举办。本届大会以“光刻产业协同发展”为核心主题,设“光刻前沿技术”、“半导体光刻材料与装备”、“显示光刻材料及装备”、“先进封装光刻材料与装备”等四大专业专场;汇聚光刻行业权威专家、产业链上下游企业及科研院所,共同搭建技术交流与产业链对接的专业平台。

上海玻纳刻亮相“2026第六届光刻产业大会” 图片一

6月25日,营销服务部刘念代表公司在显示光刻专场发表《新一代显示面板光刻设备及工艺应用》主题演讲,围绕显示面板技术的发展对光刻工艺的挑战;介绍我们公司小Mask曝光机系列产品,并获得了赛会组织和参会企业的充分认可。

上海玻纳刻亮相“2026第六届光刻产业大会” 图片二


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